南大光电：公司正在自主研发和产业化的ArF光刻胶可以用于90nm-14nm的集成电路工艺节点
2021-06-11 20:30:21
来源：
同花顺金融研究中心
同花顺（300033）金融研究中心6月11日讯，有投资者向南大光电（300346）提问， 请老师核实一下，贵司研发的ArF光刻胶按照贵司的公告，是否可以用于7nm芯片的生产？贵司现在是否拿到14nm或者28Nm芯片生产商去认证呢？
公司回答表示，感谢您的关注！公司正在自主研发和产业化的ArF光刻胶可以用于90nm-14nm的集成电路工艺节点。具体客户验证进展请关注公司相关信息披露。
责任编辑：jdm
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