晶瑞电材:ArF高端光刻胶研发工作已正式启动 旨在研发满足90-28nm芯片制程的ArF(193nm)光刻胶 满足当前集成电路产业关键材料市场需求

2021-09-17 18:38:37 来源: 同花顺金融研究中心

  同花顺300033)金融研究中心9月17日讯,有投资者向晶瑞电材300655)提问, 尊敬的董秘,你好。近来在网上看到和贵公司有关的一篇文章,说到贵公司的先前报道的光刻胶等业务都在日本的控制下而没有自己核心技术,请问,这是真的吗?

  公司回答表示,尊敬的投资者您好!公司光刻胶产品达到国际中高级水准,在国内具有悠久声誉,稳定生产光刻胶近三十多年,是国内最早规模量产光刻胶的企业之一。光刻胶是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一,高端产品的研发和生产主要由日系JSR、信越化学、东京应化等少数公司所垄断。公司承担并完成了国家02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目。公司为我国历史最悠久、供应量最大的光刻胶生产企业之一,产品序列齐全,产业化规模、盈利能力均处于行业领先水平,其中g/i线光刻胶已向中芯国际、合肥长鑫等知名大尺寸半导体厂商供货,KrF(248nm深紫外)光刻胶完成中试,目前已进入客户测试阶段,测试通过后即可进入量产阶段。ArF高端光刻胶研发工作已正式启动,旨在研发满足90-28nm芯片制程的ArF(193nm)光刻胶,满足当前集成电路产业关键材料市场需求。公司的信息以公司在指定媒体披露的信息为准。感谢您对公司的关注与支持!

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责任编辑:gjl

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