阿石创:公司所生产的多款靶材产品理论上可应用于光伏电镀铜之前的种子层制备程序中,有利于解决电镀铜与TCO层间的附着力问题
同花顺(300033)金融研究中心1月12日讯,有投资者向阿石创(300706)提问, 你好,请问贵公司的高纯铜靶材是否可以用到光伏电镀铜当中?溅射铜靶材和电镀铜有何区别?麻烦解答一下,谢谢
公司回答表示,您好!感谢您对阿石创的关注。溅射与电镀为两类不同的技术工艺,溅射属于物理气相沉积,电镀则采用的是化学反应原理。公司所生产的多款靶材产品理论上可应用于光伏电镀铜之前的种子层制备程序中,有利于解决电镀铜与TCO层间的附着力问题,具体情况还需与相关行业客户进行进一步的技术交流与沟通。谢谢!
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