南大光电：目前国内28nm以下制程用光刻胶缺陷检测设备主要集中在国内晶圆厂处
2023-06-02 15:20:52
来源：
同花顺iNews
同花顺（300033）金融研究中心6月2日讯，有投资者向南大光电（300346）提问， 请问陆总，据您了解，目前国内下游晶圆厂是否有28nm以下缺陷检测分析仪器，用于后期贵司高制程光刻胶的开发呢？
公司回答表示，感谢您的关注！目前国内28nm以下制程用光刻胶缺陷检测设备主要集中在国内晶圆厂处。现阶段，公司ArF光刻胶的产品验证主要集中在90nm~28nm制程工艺，后续将视项目需要，确定缺陷检测仪的选用方案。
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