国林科技：公司薄膜沉积和臭氧清洗设备可以应用于GAA工艺

来源： 同花顺iNews
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　　同花顺（300033）金融研究中心06月11日讯，有投资者向国林科技（300786）提问， 半导体工艺从FinFET到GAA的转变对半导体制造的各个方面都提出了更高的要求，特别是在蚀刻、清洗和CVD/PVD等关键工艺上，需要进行技术的改进和创新，以适应新结构的制造需求。请问公司的产品技术是否有针对gaa工艺结构进行有针对性的研发适配？

　　公司回答表示，尊敬的投资者，您好。公司薄膜沉积和臭氧清洗设备可以应用于GAA工艺，目前子公司国林半导体营业收入占公司主营业务收入比重较小。感谢您的关注。感谢您的关注。

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