隆扬电子:公司的HVLP5+铜箔在低表面粗糙度上有良好表现

来源: 同花顺iNews

  同花顺300033)金融研究中心12月02日讯,有投资者向隆扬电子301389)提问, 公司作为全球唯二能量产HVLP5+铜箔的企业,其真空磁控溅射工艺相比日本三井的电解法,在技术迭代空间上具备哪些不可替代的优势?

  公司回答表示,尊敬的投资者您好,生产HVLP5+铜箔的企业采用各自拥有的技术工艺。公司的HVLP5+铜箔,在低表面粗糙度上有良好表现。感谢您对公司的关注!

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