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国林科技:臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗等工艺制程,公司现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求
2026-03-30 15:03:21
来源:同花顺iNews
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同花顺(300033)金融研究中心03月30日讯,有投资者向国林科技(300786)提问, 请问公司,目前臭氧水清洗和臭氧薄膜沉积、臭氧原子层沉积,在国内的半导体(881121)市场应用情况如何?是否能够成为主流?

公司回答表示,尊敬的投资者,您好。臭氧在半导体(881121)行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程,子公司国林半导体(881121)现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。感谢您的关注。

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