理工光科：光纤光栅位“微米级位移监测”与EUV光刻设备核心部件的测量要求并非同一技术指标，公司未与晶圆厂开展送样合作

2026-07-15 15:51:51

来源：同花顺iNews

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同花顺（300033）金融研究中心07月15日讯，有投资者向理工光科（300557）提问，公司高精度光纤光栅专利可实现微米级监测，此前中标核聚变HL3项目，相关传感技术是否可延伸至半导体（881121）EUV光刻设备的温度、应力在线监测？目前有无和晶圆厂送样合作？

公司回答表示，您好，光纤光栅位“微米级位移监测”与EUV光刻设备核心部件的测量要求并非同一技术指标，公司未与晶圆厂开展送样合作。感谢您的关注！

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