同花顺（300033）金融研究中心07月17日讯，有投资者向拓荆科技（688072）提问， 公司的ald设备是采用臭氧路径吗？主要用于存储芯片（886042）制造吗？
公司回答表示，感谢您对公司的关注。公司ALD系列产品包括PE-ALD（等离子体增强原子层沉积）和Thermal-ALD（热处理原子层沉积）设备产品，可沉积多种介质、金属及金属化合物等薄膜工艺，不同ALD工艺所采用的反应源不同，包括但不限于臭氧。公司ALD设备已在存储芯片（886042）、逻辑芯片及先进封装（886009）等领域广泛应用，谢谢！
