联合化学:光学系统的技术难度主要涉及光学设计、元器件加工、装配、测试、标定、补偿、上机验证等多个环节

2026-07-29 11:49:35
来源:同花顺iNews
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同花顺(300033)金融研究中心07月29日讯,有投资者向联合化学(301209)提问, 董秘好,看到有报道说公司投资的米莱芯程其子公司芯颐和发运了首套i-line曝光光学系统,想了解这个消息属实吗?交付的这套光学系统具体技术参数和交付难度有哪些?客户是哪些类型的企业?

公司回答表示,尊敬的投资者您好,感谢您的关注。经了解核实,公司投资参股的米莱芯程其全资子公司芯颐和已于2026年6月30日顺利发运首套曝光光学系统(包含自主研发制造的首套iline照明系统与首套iline投影物镜),并交付国内头部光刻机(886054)厂商。光学系统的技术难度主要涉及光学设计、元器件加工、装调、测试、标定、补偿、上机验证等多个环节,技术壁垒高,交付后仍需匹配下游客户整机进行性能及可靠性验证。芯颐和本次交付的曝光光学系统主要用于半导体(881121)前道光刻设备整机集成。目前,公司对米莱芯程的持股比例为37.2760%。后续如有重大进展且涉及上市公司信息披露义务的,公司将严格按照相关规定履行信息披露义务。

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