聚和材料：韩国SKE空白掩模版在美国的相关专利，已全部转移至公司名下

2026-10-13 16:08:16

来源：同花顺iNews

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聚和材料--

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同花顺（300033）金融研究中心10月13日讯，有投资者向聚和材料（688503）提问，董秘你好，韩国SKE空白掩模版在美国的相关专利，是否已经全部转移到公司名下？上海空白掩膜版生产基地建设进度是否符合预期？

公司回答表示，尊敬的投资者,您好。韩国SKE空白掩模版在美国的相关专利，已全部转移至公司名下；上海空白掩膜版生产基地建设按期顺利进行。感谢您的关注！

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